NL-QMS磁控濺射納米顆粒尺寸控制系統(tǒng)

四極桿質(zhì)譜儀（Quadrupole Mass Spectrometer, QMS）在磁控濺射納米顆粒尺寸控制中的應(yīng)用主要體現(xiàn)在以下幾個方面：

1.       實時監(jiān)測與反饋：

o    QMS能夠?qū)崟r監(jiān)測納米顆粒的尺寸分布，通過質(zhì)量過濾器按質(zhì)量或直徑實時掃描或過濾沉積的納米顆粒，從而促進生長條件的優(yōu)化。

o    通過調(diào)整工藝參數(shù)，如磁控濺射電流、結(jié)露區(qū)長度和氣體流量等，可以精確控制納米顆粒的尺寸。

2.       精確控制納米顆粒尺寸：

o    在1-20 nm范圍內(nèi)調(diào)整納米顆粒的尺寸分布，這對于許多應(yīng)用領(lǐng)域（如生物醫(yī)學、電子材料等）至關(guān)重要。

o    例如，在銀納米團簇的制備中，通過調(diào)節(jié)濺射電流和氬氣流量，可以獲得平均粒徑為2, 4和6 nm的銀納米團簇。

3.       工藝參數(shù)的優(yōu)化：

o    QMS可以與透射電子顯微鏡（TEM）等其他表征手段結(jié)合，對比在線和離線測量結(jié)果，確保納米顆粒尺寸控制的準確性和一致性。

o    通過QMS的監(jiān)測數(shù)據(jù)，可以優(yōu)化工藝參數(shù)，如濺射電流、氣體流量和結(jié)露區(qū)長度，以實現(xiàn)對納米顆粒尺寸的精確控制。

4.       應(yīng)用實例：

o    在等離子體氣相凝聚技術(shù)中，QMS被用于在線測量銀納米團簇的粒徑尺寸與分布，并與TEM離線測量值進行比對，驗證了QMS在納米顆粒尺寸控制中的有效性。

通過上述方法，NL-QMS能夠有效地控制納米顆粒的尺寸，滿足不同應(yīng)用領(lǐng)域?qū){米顆粒尺寸的精確要求。

 NL-QMS磁控濺射納米顆粒尺寸控制系統(tǒng)技術(shù)規(guī)格